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ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜
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商品詳細情報
| 管理番号 | 新品 ：8041432311 | メーカー | 5efaae0acec8db | 発売日 | 2025-06-01 03:06 | 定価 | 20000円 | ||
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| カテゴリ | |||||||||
ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜
ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術: 成膜技術と膜,論文紹介 - NIMS Library Portal - Next-L Enju Leaf,超精密中性子集束ミラーによる電極界面のナノ構造解析技術の実用,NEDOと産総研、ファインセラミックス内部のキラー欠陥の可視化,成膜 - Lam Research,薄膜転写プロセスを用いたシリコンフォトニクス用導波路型光,ナノ材料科学のフロンティア開拓 | 研究紹介 | ナノ構造情報の,HARADA, Takayuki | SAMURAI, NIMS Researchers Directory Service,長谷 正司 | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS),酸化亜鉛薄膜高速蛍光体 | 株式会社 S-Nanotech Co-Creation,SUMIYA, Masatomo | SAMURAI, NIMS Researchers Directory Service,研究内容 - 機能マルチモーダル制御の材料科学と材料創製 - 革新,ナノ粒子工学研究室｜研究室ガイド 北陸先端科学技術大学院大学,極端紫外光研究施設 松井グループ
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